マイクロン、広島工場を1割拡張 次世代DRAM量産
半導体大手の米マイクロン・テクノロジーは11日、主力の広島工場(広島県東広島市)で新製造棟の完成式典を開き、報道陣に公開した。製造装置を配置するクリーンルームの面積が10%拡大した。多くの製造装置を必要とする次世代DRAMの生産体制を整え、世界シェア首位の韓国サムスン電子を追い上げる。
マイクロンは半導体のシェアで世界4位、DRAMのシェアで3位を占める。広島工場はマイクロンが2013年に買収した旧エルピーダメモリから引き継いだ。スマートフォンなどに使う低消費電力DRAMが主力で、台湾の別工場に量産技術を展開するマザー工場の役割も持っている。
世界半導体市場統計(WSTS)が19年の半導体売上高を前年比12%の減少と予測するなど、市場は足元で調整局面にある。マイクロンのサンジェイ・メロートラ最高経営責任者(CEO)は「自動車向け市場は4年で2倍以上に拡大するとみている」として、中長期の拡大に期待を示した。
報道陣に公開した新製造棟3階のクリーンルームは面積が約7000平方メートル。増床分は次世代DRAMを生産する装置の設置にあて、基板に使うシリコンウエハーの投入枚数は増やさない。天井を行き交う搬送装置を2段重ねにする新設計で搬送効率を高めた。
マイクロンは広島工場で19年中に「1Z世代」と呼ばれる次世代DRAMの量産を始める計画。完了時期は未定だが、敷地内に別の製造棟も建設中で、広島工場に今後数年で数十億ドル規模の投資を継続する方針だ。さらに今後3年で新卒採用の技術者を500人増員する計画という。
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